www.shinkuu.co.jp サイト解析まとめ

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HTMLサイズ

1ページ平均HTML(バイト)105225.26

内部リンク集計

リンク総数102

外部リンク集計

リンク総数20

メタ情報

meta description平均長120.3
OGPありページ数19
Twitterカードありページ数19

HTML言語 分布

キー割合
ja100.00%

文字コード 分布

キー割合
utf-8100.00%

内部リンク分析(Internal)

ユニーク内部リンク数102
ページあたり内部リンク平均132

内部リンク 深さヒストグラム

キー
075
12169
2247
417

内部リンク 上位URL

URLリンク総数
https://www.shinkuu.co.jp/75
https://www.shinkuu.co.jp/privacy-policy/59
https://www.shinkuu.co.jp/copyright-policy/59
https://www.shinkuu.co.jp/sputtering-device/57
https://www.shinkuu.co.jp/hpc-20/57
https://www.shinkuu.co.jp/es200/57
https://www.shinkuu.co.jp/vacuum-vapor-deposition-device-vc300s-vc300w/57
https://www.shinkuu.co.jp/ves-10/57
https://www.shinkuu.co.jp/vacuum-vapor-deposition-device/57
https://www.shinkuu.co.jp/plasma-treatment-device/57
https://www.shinkuu.co.jp/tem-holder-storage-svs-100t/57
https://www.shinkuu.co.jp/tem-holder-storage-tvs-40t/57
https://www.shinkuu.co.jp/t-butyl-freeze-drying-device/57
https://www.shinkuu.co.jp/vacuum-components-lineup/57
https://www.shinkuu.co.jp/corporation/57
https://www.shinkuu.co.jp/plasma-cleaner/56
https://www.shinkuu.co.jp/film-thickness-calculation/41
https://www.shinkuu.co.jp/vrf-100s/40
https://www.shinkuu.co.jp/vacuum-vapor-deposition-device-ve-2050/40
https://www.shinkuu.co.jp/vacuum-vapor-deposition-device-ve-2040/40

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ワードクラウド上位

重み
Station1
また0.816115
Google0.8
以下0.626886
当社0.611673
という0.611673
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technology0.6
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真空デバイス0.458755
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cutting0.4
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もしくはその恐れのある行為0.4
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本ポリシー0.305836
を定めます0.305836
販売0.305836
当社は本ポリシーを予告なく改定することがあります0.305836
記事監修0.305836
真空デバイスでは0.2
電子顕微鏡試料作成用の前処理装置を取り扱っております0.2
導電処理用のコーティング装置で0.2
白金0.2
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などを手軽に簡単にコートいたします0.2
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様々なコンテンツをランダムに展開します0.2
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高い耐久性を備えているため0.2
さまざまな工業分野で需要が増大している材料の一つです0.2
この薄膜は0.2
特にエレクトロニクスやエネルギー分野0.2
そして防食コーティングにおいて重要な役割を果たしています0.2
酸化アルミニウムは酸化アルミナセラミックスとも言われます0.2
真空デバイスのRFスパッタ装置0.2
VRF0.2

共起語上位

語1語2スコア共起ページ数
Pick標準品ラインナップ3.75167554
Pickコンテンツ3.09204836
コンテンツ標準品ラインナップ2.89478236
という以下2.09317213
という本ポリシー2.08775610
AkatsukaStation2.02274710
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というを定めます1.7010148
もしくはその恐れのある行為公序良俗に反する行為1.666055
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ゲル法はソル1.5721565
ソル液相から酸化アルミニウムを形成するプロセスで1.5721565
ソル溶液からコーティングする方法です1.5721565
以下本ポリシー1.5700538
JobanMito1.5586388
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真空デバイスでは電子顕微鏡試料作成用の前処理装置を取り扱っております1.5378824
などを手軽に簡単にコートいたしますオスミウム1.5378824
薄膜酸化アルミニウム薄膜1.5378824
believemission1.5378824
最先端技術研究開発分野で活躍されている方々の必要な機器開発を私たちは1.5378824
TEMの世界で支持膜は色々な点で重要な働きを持つ物ですが1.5378824
EBガンElectron1.5378824
私達を取巻く環境には色々な生物が取巻いています観察をしてみました1.5378824
マグネトロンスパッタの成膜について少し詳しく見ていきましょう真空装置の中でプラズマを作るのに必要なガス原料は1.5378824
以下当社1.53193310
を定めます本ポリシー1.5149896
導電処理用のコーティング装置で電子顕微鏡試料作成用の前処理装置を取り扱っております1.4663264
導電処理用のコーティング装置で白金1.4663264
オスミウム白金1.4663264
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優れた絶縁性化学的安定性1.4663264
優れた絶縁性高い耐久性を備えているため1.4663264
さまざまな工業分野で需要が増大している材料の一つです高い耐久性を備えているため1.4663264
この薄膜はさまざまな工業分野で需要が増大している材料の一つです1.4663264
この薄膜は特にエレクトロニクスやエネルギー分野1.4663264
そして防食コーティングにおいて重要な役割を果たしています特にエレクトロニクスやエネルギー分野1.4663264
真空デバイスのRFスパッタ装置酸化アルミニウムは酸化アルミナセラミックスとも言われます1.4663264
VRF真空デバイスのRFスパッタ装置1.4663264
100SVRF1.4663264
100Sで実際に成膜を行った際の膜厚グラフを以下に示します1.4663264
で実際に成膜を行った際の膜厚グラフを以下に示します酸化アルミニウムを堆積させる方法はいくつかありますが1.4663264
弊社ではRF電源を利用したスパッタ装置で成膜を行います酸化アルミニウムを堆積させる方法はいくつかありますが1.4663264

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