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semicon.kuee.kyoto-u.ac.jp サイト解析まとめ

基本情報

サイトトップhttps://semicon.kuee.kyoto-u.ac.jp

HTMLサイズ

1ページ平均HTML（バイト）63469.31

内部リンク集計

リンク総数114

外部リンク集計

リンク総数13

メタ情報

meta description平均長52.23
OGPありページ数31
Twitterカードありページ数31

HTML言語 分布

キー割合
ja100.00%

文字コード 分布

キー割合
utf-8100.00%

内部リンク分析（Internal）

ユニーク内部リンク数114
ページあたり内部リンク平均117.44

内部リンク 深さヒストグラム

キー値
0148
11777
22299
44

内部リンク 上位URL

URLリンク総数
https://semicon.kuee.kyoto-u.ac.jp/member180
https://semicon.kuee.kyoto-u.ac.jp/haizoku180
https://semicon.kuee.kyoto-u.ac.jp/144
https://semicon.kuee.kyoto-u.ac.jp/research/%e3%83%af%e3%82%a4%e3%83%89%e3%82%ae%e3%83%a3%e3%83%83%e3%83%97%e5%8d%8a%e5%b0%8e%e4%bd%93sicgan%e9%9b%bb%e5%ad%90%e3%83%87%e3%83%90%e3%82%a4%e3%82%b9144
https://semicon.kuee.kyoto-u.ac.jp/category/awards118
https://semicon.kuee.kyoto-u.ac.jp/category/events114
https://semicon.kuee.kyoto-u.ac.jp/category/presentations111
https://semicon.kuee.kyoto-u.ac.jp/category/publishment110
https://semicon.kuee.kyoto-u.ac.jp/category/press-release110
https://semicon.kuee.kyoto-u.ac.jp/category/research-activity109
https://semicon.kuee.kyoto-u.ac.jp/research108
https://semicon.kuee.kyoto-u.ac.jp/%e6%88%90%e6%9e%9c%e7%99%ba%e8%a1%a8108
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キーワード分析（KeywordMap）

ワードクラウド上位

語重み
Kimoto1
Kaneko0.973449
SiC0.658403
Mikami0.633944
Power0.545131
Int0.506193
Materials0.456136
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Devices0.429107
金子0.400386
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Carbide0.395175
Related0.395175
Semiconductor0.387713
Busan0.387713
Korea0.387713
electron0.352941
4H0.350442
光顕0.350442
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木本0.309911
恒暢0.300289
京大院工0.290785
学部4回生0.290785
三上0.266924
杏太0.266924
Chi0.266924
Conference0.26345
Future0.242321
invited0.242321
Workshop0.242321
N3220.242321
リンク0.233628
Appl0.233628
Phys0.233628
Tanaka0.233628
Tachiki0.233628
修士課程1回生0.233558
Japan0.233558
において0.218741
channel0.21076
修士課程2回生0.200193
Ishikawa0.19469
Ito0.19469
連絡先0.19469
A10.19469
Tel0.19469
Fax0.19469
研究室共用0.19469
SiO0.193857

共起語上位

語1語2スコア共起ページ数
CarbideSilicon3.60326660
CarbideRelated3.3756455
MaterialsRelated3.18501558
三上杏太3.14046932
BusanKorea3.06912930
恒暢木本2.9417736
ApplPhys2.91868124
光顕金子2.90477734
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impactsits2.74941420
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Fax研究室共用2.74941420
KanekoMikami2.66796359
RelatedSilicon2.6582242
kueekyoto2.57128216
9p9月9日2.57128216
ConfSilicon2.48778932
chargesfixed2.46427516
itstrapping2.44031616
が授与対象です学術芸術上の発明改良創作に関して事績の著しい者2.37575312
electrontrapping2.36368320
Firstorder2.34115612
SPICEorder2.34115612
SPICEmodeling2.34115612
gateside2.34115612
に関する功績発明改良2.34115612
により紫綬褒章を受章しました発明改良2.34115612
により紫綬褒章を受章しました紫綬褒章は2.34115612
学術芸術上の発明改良創作に関して事績の著しい者紫綬褒章は2.34115612
プロセス技術化合物及びパワーデバイス2.34115612
ありがとうございました当日は遠方から多くの卒業生の方にご参加いただきました2.32530911
BusanMaterials2.32201831
CarbideMaterials2.31227241
FaxTel2.3093516
京大院工恒暢2.25352819
KanekoKimoto2.25069766
ResearchSouthampton2.24972912
JapanJoint2.24283616
9月29日ICSCRM2.22261712
electronits2.21612920
electronimpacts2.21612920
Dopingdependent2.19689512
JFETsgate2.19689512
JFETstoward2.19689512
JointOpportunity2.19689512
に関する功績炭化珪素半導体材料および電力用素子の開発2.19689512
Xilun熙倫2.18859611
令和7年春の褒章において木本恒暢教授が2.14006612
D3熙倫君2.108418
Hiroki弘樹2.1034668

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