hnec.jp サイト解析まとめ

基本情報

サイトトップhttps://hnec.jp

HTMLサイズ

1ページ平均HTML(バイト)12892.94

内部リンク集計

リンク総数31

外部リンク集計

リンク総数0

メタ情報

meta description平均長59.4
OGPありページ数0
Twitterカードありページ数0

HTML言語 分布

キー割合
ja-jp58.82%
en-us41.18%

文字コード 分布

キー割合
utf-8100.00%

内部リンク分析(Internal)

ユニーク内部リンク数31
ページあたり内部リンク平均13.24

内部リンク 深さヒストグラム

キー
021
1109
271
324

内部リンク 上位URL

URLリンク総数
https://hnec.jp/news/22
https://hnec.jp/21
https://hnec.jp/en/15
https://hnec.jp/en/news/14
https://hnec.jp/products/hnec-fv12-vacuum-drying-machine-equipment/13
https://hnec.jp/company/12
https://hnec.jp/innovation/11
https://hnec.jp/products/11
https://hnec.jp/contact/11
https://hnec.jp/en/products/hnec-fv12-vacuum-drying-machine-equipment/10
https://hnec.jp/company/#about9
https://hnec.jp/company/#history9
https://hnec.jp/company/#culture9
https://hnec.jp/en/company/9
https://hnec.jp/en/contact/8
https://hnec.jp/en/innovation/8
https://hnec.jp/en/products/8
https://hnec.jp/en/innovation/perovskite-crystalline-silicon-stacking-technology/3
https://hnec.jp/en/products/batch-style-high-vacuum-magnetron-sputtering-equipment/3
https://hnec.jp/cdn-cgi/l/email-protection2

連絡先候補(Contacts)

このデータの閲覧には会員登録が必要になります。会員登録

キーワード分析(KeywordMap)

ワードクラウド上位

重み
solar1
Shintatsu0.760578
perovskite0.740467
area0.714286
research0.671098
equipment0.626358
development0.626358
semiconductor0.626358
Hangna0.571429
cells0.571429
large0.539535
production0.539535
HNEC0.536878
deposition0.536878
FV12真空乾燥機は0.524775
Vacuum0.524775
glass0.524775
can0.510699
technology0.492139
industry0.492139
oriented0.447399
enterprise0.447399
specializing0.447399
manufacturing0.447399
physical0.447399
vapor0.447399
thin0.437742
film0.437742
Equipment0.437313
used0.437313
has0.431628
been0.428571
coating0.428571
machines0.428571
cell0.428571
株式会社信達は0.367588
through0.364785
FV120.34985
Drying0.34985
Machine0.34985
substrate0.34985
製品の特長0.323721
have0.323721
than0.323721
Perovskite0.323721
evaporation0.323721
ガラス0.323721
開発0.321066
株式会社信達0.315075
半導体業界向けの物理蒸着0.29431

共起語上位

語1語2スコア共起ページ数
developmentresearch3.31382657
enterpriseoriented3.15441940
enterprisespecializing3.15441940
manufacturingphysical3.15441940
physicalvapor3.15441940
装置の研究開発3.05178834
orientedtechnology3.03500540
depositionvapor2.92598940
Shintatsutechnology2.91559140
filmthin2.8054624
depositionequipment2.77897144
developmentmanufacturing2.73285440
製造に特化した科学技術企業です開発2.70785924
researchspecializing2.64641340
半導体業界向けの物理蒸着装置の研究2.6091433
PVD装置の研究2.59763844
industrysemiconductor2.5553229
DryingMachine2.50735316
装置の研究製造に特化した科学技術企業です2.49629423
半導体業界向けの物理蒸着株式会社信達は2.48580228
Equipmentcan2.39288420
canused2.39288420
coatingmachines2.37522212
orientedspecializing2.35505230
manufacturingvapor2.35505230
EquipmentMachine2.34442316
PVD半導体業界向けの物理蒸着2.33135344
depositedlayer2.29030512
centrallycontrolled2.29030512
HMIprogrammatically2.29030512
Shintatsuoriented2.25439830
enterprisetechnology2.25439830
cellssolar2.2428817
FV12Vacuum2.211316
DryingVacuum2.211316
glasssubstrate2.211316
arealarge2.18149316
equipmentsemiconductor2.16672734
depositionphysical2.16250730
FV12真空乾燥機はHNEC2.12864819
centrallysubstrate2.11326712
emailprotected2.0900198
世界を地球規模の気候変動問題が深刻化するなか2.0900198
perovskitesolar2.0629924
Equipmentused2.05452715
developmentspecializing1.99971330
developmentphysical1.99971330
equipmentvapor1.99971330
PVD開発1.99722233
HMIにより集中制御され機械操作のためのプログラム可能で1.9828138

類似サイトはこちら