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リンク総数74

外部リンク集計

リンク総数2

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meta description平均長78.8
OGPありページ数0
Twitterカードありページ数0

HTML言語 分布

キー割合
ja100.00%

文字コード 分布

キー割合
utf-8100.00%

内部リンク分析(Internal)

ユニーク内部リンク数74
ページあたり内部リンク平均21.1

内部リンク 深さヒストグラム

キー
1317
29
359
422
56
69

内部リンク 上位URL

URLリンク総数
https://technofine.jp/index.html79
https://technofine.jp/support.html51
https://technofine.jp/products.html50
https://technofine.jp/about.html46
https://technofine.jp/factory.html43
https://technofine.jp/sitemap.html40
https://technofine.jp/product/tool/tool_01.html6
https://technofine.jp/product/product_A/a02001.html6
https://technofine.jp/product/product_A/a01002.html6
https://technofine.jp/product/product_A/ald1000.html5
https://technofine.jp/product/product_A/a01001.html5
https://technofine.jp/product/product_A/a01002_b.html4
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https://technofine.jp/product/product_E/e01000.html3
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https://technofine.jp/product/tool/tool_02.html3
https://technofine.jp/product/product_A/ald_bottle.html3
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ワードクラウド上位

重み
以下1
寸法0.975772
奥行0.975772
高さ0.975772
対応膜種0.823909
バルブをユニットとして集約0.650515
供給経路はヒーターによって温度管理され0.650515
配管内の原料堆積を防止します0.650515
サンプルサイズ0.650515
2インチ0.650515
当社は0.650515
また0.650515
ALD0.617932
Atomic0.617932
Layer0.617932
Deposition0.617932
は原子層堆積法と呼ばれ0.617932
ピンホールのない均一なナノ薄膜が形成可能です0.617932
半導体分野をはじめとする電子工業の発展は目ざましく0.5
次々と新しい製品を生み出すべく0.5
研究開発がおこなわれています0.5
これらの製品を支える技術への要求も多様化し0.5
前例のない装置開発が求められています0.5
株式会社テクノファインでは0.5
株式会社テクノファイン0.5
当社0.5
と総称します0.5
といいます0.5
シリコンウェハ0.5
SEMI0.5
JEITA規格0.5
耐薬品性に優れる材質のため0.5
アルカリなどさまざまな薬液での洗浄作業に使用いただけます0.5
標準仕様以外のサイズ0.5
ワーク数0.5
持ち手長の仕様変更0.5
お手持ちの洗浄容器の寸法に合わせた特注仕様にも対応いたします0.5
プライバシーポリシー0.5
弊社工場内に実験設備を所有しております0.325257
自社製品の性能評価試験はもちろん0.325257
Microsoft社より0.325257
それに伴い0.325257
サポート終了後以降は0.325257
ブラウザの仕様変更やOSアップデート等の影響により0.325257
正常に利用できない場合があります0.325257
拝啓0.325257
貴社益々ご清栄のこととお喜び申し上げます0.325257
平素は0.325257
格別のご愛顧を賜り厚く御礼を申し上げます0.325257
下記製品につきまして0.325257

共起語上位

語1語2スコア共起ページ数
ALDAtomic2.3639712
Depositionは原子層堆積法と呼ばれ2.2251312
奥行高さ2.20201811
AtomicLayer2.1629912
DepositionLayer2.1629912
は原子層堆積法と呼ばれピンホールのない均一なナノ薄膜が形成可能です2.13927111
奥行寸法2.13927111
半導体分野をはじめとする電子工業の発展は目ざましく次々と新しい製品を生み出すべく2.0465168
次々と新しい製品を生み出すべく研究開発がおこなわれています2.0465168
SEMIシリコンウェハ2.0465168
ワーク数標準仕様以外のサイズ2.0465168
寸法高さ1.92400610
と総称します当社1.8958088
バルブをユニットとして集約供給経路はヒーターによって温度管理され1.8958088
供給経路はヒーターによって温度管理され配管内の原料堆積を防止します1.8958088
2インチサンプルサイズ1.8958088
JEITA規格SEMI1.8958088
アルカリなどさまざまな薬液での洗浄作業に使用いただけます耐薬品性に優れる材質のため1.8958088
これらの製品を支える技術への要求も多様化し研究開発がおこなわれています1.7878166
ワーク数持ち手長の仕様変更1.7878166
ALDLayer1.7161929
2インチ寸法1.6685588
これらの製品を支える技術への要求も多様化し次々と新しい製品を生み出すべく1.6651896
持ち手長の仕様変更標準仕様以外のサイズ1.6651896
Depositionピンホールのない均一なナノ薄膜が形成可能です1.6574129
半導体分野をはじめとする電子工業の発展は目ざましく研究開発がおこなわれています1.6297236
Layerは原子層堆積法と呼ばれ1.602999
以下株式会社テクノファイン1.5783738
AtomicDeposition1.5523249
Microsoft社よりそれに伴い1.5184354
それに伴いサポート終了後以降は1.5184354
拝啓貴社益々ご清栄のこととお喜び申し上げます1.5184354
誠に勝手ではございますが追ってお知らせさせていただきます1.5184354
個人情報の取扱いに関する詳細は当社の1.5184354
その他技術的なご質問などございましたら製品に関する仕様やお見積り依頼1.5184354
繰り返し売り込みをおこなう企業様に対しては送信していただいても一切対応いたしません1.5184354
当社株式会社テクノファイン1.5070966
JEITA規格シリコンウェハ1.5070966
これらの製品を支える技術への要求も多様化し前例のない装置開発が求められています1.444084
お手持ちの洗浄容器の寸法に合わせた特注仕様にも対応いたします持ち手長の仕様変更1.444084
サンプルサイズ寸法1.4348697
以下当社1.4276648
平素は貴社益々ご清栄のこととお喜び申し上げます1.4274324
平素は格別のご愛顧を賜り厚く御礼を申し上げます1.4274324
下記製品につきまして格別のご愛顧を賜り厚く御礼を申し上げます1.4274324
下記製品につきまして諸般の事情により製造を休止させていただきます1.4274324
製造再開の可否つきましては諸般の事情により製造を休止させていただきます1.4274324
製造再開の可否つきましては追ってお知らせさせていただきます1.4274324
お客さまからご提供いただくお名前ご住所1.4274324
ご住所電子メールアドレス1.4274324

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