www.param.co.jp サイト解析まとめ

基本情報

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HTMLサイズ

1ページ平均HTML(バイト)20234.83

内部リンク集計

リンク総数81

外部リンク集計

リンク総数11

メタ情報

meta description平均長63
OGPありページ数12
Twitterカードありページ数0

HTML言語 分布

キー割合
ja100.00%

文字コード 分布

キー割合
utf-8100.00%

内部リンク分析(Internal)

ユニーク内部リンク数81
ページあたり内部リンク平均51

内部リンク 深さヒストグラム

キー
038
136
2150
3386
52

内部リンク 上位URL

URLリンク総数
https://www.param.co.jp/38
https://www.param.co.jp/contents/category/access/24
https://www.param.co.jp/news/24
https://www.param.co.jp/contents/category/ozone-supply/22
https://www.param.co.jp/contents/category/ozone-decomposer/22
https://www.param.co.jp/contents/category/column/22
https://www.param.co.jp/contents/category/circuits/22
https://www.param.co.jp/news/15405/16
https://www.param.co.jp/news/15161/16
https://www.param.co.jp/news/14924/15
https://www.param.co.jp/contents/category/contact12
https://www.param.co.jp/en/12
https://www.param.co.jp/contents/category/electron-beam/12
https://www.param.co.jp/contents/category/lithography/12
https://www.param.co.jp/contents/category/multi-beam/12
https://www.param.co.jp/contents/category/electron-emitter/12
https://www.param.co.jp/contents/category/small-lens/12
https://www.param.co.jp/contents/category/company/12
https://www.param.co.jp/contents/category/introduction/12
https://www.param.co.jp/contents/category/history/12

キーワード分析(KeywordMap)

ワードクラウド上位

なし

共起語上位

語1語2スコア共起ページ数
検査電子ビーム描画3.33450540
エクセルビル3階東京都八王子市台町四丁目44番4号3.22464236
東京都八王子市台町四丁目44番4号補正コイルを用いて磁界強度を補正する3.09708340
SEM装置で描画検査2.95543840
SEM装置で描画観察をしながら2.95543840
炭化水素膜観察をしながら2.95543840
コンタミ炭化水素膜2.95543840
コンタミ付着を防止2.95543840
クリーン化付着を防止2.95543840
オゾンを分解しクリーン化2.95543840
オゾンを分解し無害な酸素ガスとして排出2.95543840
オゾン濃度は0無害な酸素ガスとして排出2.95543840
オゾン濃度は01ppm以下2.95543840
大電流から1ppm以下2.95543840
大電流から製造に精通2.95543840
製造に精通電子ビームの走査2.95543840
位置検出電子ビームの走査2.95543840
位置検出安定化2.95543840
各種制御回路技術の設計業務安定化2.95543840
各種制御回路技術の設計業務製造業務に精通2.95543840
制御ソフトウェア開発業務に精通製造業務に精通2.95543840
制御ソフトウェア開発業務に精通永久磁石を用いた小型コラムを100本以上束にしたマルチコラム2.95543840
各ビームが独立に点滅する永久磁石を用いた小型コラムを100本以上束にしたマルチコラム2.95543840
低仕事関数電子銃各ビームが独立に点滅する2.95543840
8eV低仕事関数電子銃2.95543840
1eVの仕事関数を実現8eV2.95543840
1eVの仕事関数を実現低仕事関数化により高輝度2.95543840
または高寿命を得る事が可能低仕事関数化により高輝度2.95543840
または高寿命を得る事が可能主磁界に永久磁石を用いた小型レンズ2.95543840
コラムを微細径主磁界に永久磁石を用いた小型レンズ2.95543840
20mm程度に抑制しコラムを微細径2.95543840
20mm程度に抑制し300mmウェハ上に170本までのコラムを並べる2.95543840
300mmウェハ上に170本までのコラムを並べる補正コイルを用いて磁界強度を補正する2.95543840
TELエクセルビル3階2.7349324
エクセルビル3階補正コイルを用いて磁界強度を補正する2.47177430
TEL東京都八王子市台町四丁目44番4号2.44236324
SEM装置で描画電子ビーム描画2.32551530
300mmウェハ上に170本までのコラムを並べる東京都八王子市台町四丁目44番4号2.131530
FAXTEL2.04050312
検査観察をしながら2.01575130
SEM装置で描画炭化水素膜2.01575130
コンタミ観察をしながら2.01575130
付着を防止炭化水素膜2.01575130
クリーン化コンタミ2.01575130
オゾンを分解し付着を防止2.01575130
クリーン化無害な酸素ガスとして排出2.01575130
オゾンを分解しオゾン濃度は02.01575130
無害な酸素ガスとして排出1ppm以下2.01575130
オゾン濃度は0大電流から2.01575130
製造に精通1ppm以下2.01575130