be-sputter.co.jp サイト解析まとめ

基本情報

サイトトップhttps://be-sputter.co.jp

HTMLサイズ

1ページ平均HTML(バイト)11182.57

内部リンク集計

リンク総数17

外部リンク集計

リンク総数2

メタ情報

meta description平均長0
OGPありページ数0
Twitterカードありページ数0

HTML言語 分布

キー割合
ja100.00%

文字コード 分布

キー割合
x-sjis100.00%

内部リンク分析(Internal)

ユニーク内部リンク数17
ページあたり内部リンク平均15

内部リンク 深さヒストグラム

キー
124
2185
31

内部リンク 上位URL

URLリンク総数
https://be-sputter.co.jp/web/gaiyou.html#toiawase24
https://be-sputter.co.jp/index.html24
https://be-sputter.co.jp/web/fair1.html16
https://be-sputter.co.jp/web/products.html15
https://be-sputter.co.jp/web/tokyo.html14
https://be-sputter.co.jp/web/sputter.html14
https://be-sputter.co.jp/web/sputtersample.html14
https://be-sputter.co.jp/web/anken.html14
https://be-sputter.co.jp/web/gaiyou.html14
https://be-sputter.co.jp/web/kankyo.html14
https://be-sputter.co.jp/web/salespoint.html14
https://be-sputter.co.jp/web/map1.html14
https://be-sputter.co.jp/web/pla.html14
https://be-sputter.co.jp/gifpeg/FAX.pdf2
https://be-sputter.co.jp/gifpeg/anken/te03.jpg1
https://be-sputter.co.jp/web/otoiawase.html1
https://be-sputter.co.jp/gifpeg/kankyo.pdf1

連絡先候補(Contacts)

このデータの閲覧には会員登録が必要になります。会員登録

キーワード分析(KeywordMap)

ワードクラウド上位

重み
gas1
Informations0.569323
amount0.5
base0.5
material0.5
target0.5
ITO0.426993
Sputter0.426993
Topics0.284662
Products0.284662
Company0.284662
MAP0.284662
sputtering0.284662
EMC0.25
N10.25
Tel0.25
Fax0.25
date0.25
sputter0.25
yJIS0.25
iat550nm0.25
TEL0.25
FAX0.25
FBe0.25
F30.25
ETi0.25
AAr0.25
iITO0.25
ETiN0.25
Sputtering0.25
direct0.25
current0.25
voltage0.25
between0.25
andtargets0.25
while0.25
introducing0.25
non0.25
active0.25
mainly0.25
vacuum0.25
which0.25
ionized0.25
collide0.25
method0.25
let0.25
laminating0.25
addition0.25
can0.25
reactivity0.25

共起語上位

語1語2スコア共起ページ数
CompanyInformations1.98918610
ProductsTopics1.9740818
MAPSputter1.9637149
N1Tel1.4851854
Faxdate1.4851854
InformationsProducts1.4144658
FaxTel1.3609334
AArETi1.3609334
AAriITO1.3609334
ETiNiITO1.3609334
ETiNSputtering1.3609334
currentdirect1.3609334
currentvoltage1.3609334
betweenvoltage1.3609334
introducingwhile1.3609334
introducingnon1.3609334
activenon1.3609334
vacuumwhich1.3609334
ionizedwhich1.3609334
collideionized1.3609334
letmethod1.3609334
additioncan1.3609334
canreactivity1.3609334
TiNputting1.3609334
puttingvery1.3609334
smallvery1.3609334
N2O21.3609334
methodtarget1.3261255
lettarget1.3261255
laminatingtarget1.3261255
InformationsSputter1.3191558
gasmainly1.2620995
datesputter1.2608053
reactivitysputtering1.1735764
ITOTiN1.1735764
Faxsputter1.1634683
CompanyProducts1.1458636
FBeMAP1.0992224
CompanySputter1.0712276
InformationsTopics1.0571176
FBeSputter1.0461514
FaxN11.0379783
Teldate1.0379783
ITOsputtering0.9862194
ETiMAP0.974974
Sputteringamount0.974974
amountdirect0.974974
basebetween0.974974
andtargetsbase0.974974
andtargetsmaterial0.974974

類似サイトはこちら