photomask.co.jp サイト解析まとめ

基本情報

サイトトップhttps://photomask.co.jp

HTMLサイズ

1ページ平均HTML(バイト)35360.94

内部リンク集計

リンク総数42

外部リンク集計

リンク総数29

メタ情報

meta description平均長54.53
OGPありページ数17
Twitterカードありページ数17

HTML言語 分布

キー割合
ja100.00%

文字コード 分布

キー割合
utf-8100.00%

内部リンク分析(Internal)

ユニーク内部リンク数42
ページあたり内部リンク平均103.94

内部リンク 深さヒストグラム

キー
068
1501
21198

内部リンク 上位URL

URLリンク総数
https://photomask.co.jp/contact/88
https://photomask.co.jp/about/69
https://photomask.co.jp/ir/69
https://photomask.co.jp/68
https://photomask.co.jp/product/68
https://photomask.co.jp/about/overview/65
https://photomask.co.jp/about/message/65
https://photomask.co.jp/about/officers/64
https://photomask.co.jp/news/52
https://photomask.co.jp/sustainability/52
https://photomask.co.jp/careers/52
https://photomask.co.jp/about/feature/48
https://photomask.co.jp/about/philosophy/47
https://photomask.co.jp/about/brand/47
https://photomask.co.jp/about/locations/47
https://photomask.co.jp/about/iso/47
https://photomask.co.jp/product/photomask/35
https://photomask.co.jp/product/nanoimprint/35
https://photomask.co.jp/product/various_photomask/35
https://photomask.co.jp/en/34

キーワード分析(KeywordMap)

ワードクラウド上位

重み
テクセンドフォトマスク株式会社1
Chunghwa0.617203
Inc0.617203
Hsinchu0.617203
Branch0.617203
私たちは0.416888
朝霞サイト0.411468
滋賀サイト0.411468
テクセンドフォトマスク0.408554
また0.33351
テクセンドフォトマスクは0.308601
テクセンド0.27237
テクセンドフォトマスクでは0.27237
以下0.27237
といいます0.27237
東京に本社を構え0.250133
世界各地に広がる顧客サービスネットワークと0.250133
業界最先端の技術開発力で0.250133
半導体用フォトマスクの製造0.205734
販売会社として0.205734
凸版印刷株式会社0.205734
現TOPPANホールディングス株式会社0.205734
からの会社分割により設立され0.205734
2022年4月より営業を開始しました0.205734
さらに0.205734
テクノロジー0.205734
主要な地域にある9つの製造拠点を活用し0.205734
汐留本社オフィス0.205734
登録の範囲0.205734
朝霞工場0.205734
滋賀工場0.205734
における半導体フォトマスク及び株式会社トッパン0.205734
テクニカル0.205734
デザインセンターにおける半導体製品の設計0.205734
開発及び製造委託0.205734
管理に関する以下の業務0.205734
平素より0.205734
テクセンドフォトマスクへのご理解とご支援を賜り0.205734
心より御礼申し上げます0.205734
2024年11月1日をもって0.205734
株式会社トッパンフォトマスク0.205734
から0.205734
へと社名を変更いたしました0.205734
120年以上の歴史を持つTOPPANグループの一員として0.205734
これからも半導体産業の発展と成長に貢献してまいります0.205734
先端微細加工技術を駆使して半導体産業の革新と成長をリードし0.205734
世界中8つの工場がOne0.205734
従業員の多様性を尊重し0.205734
魅力ある職場を創造することで0.205734
個々の能力を最大限に引き出すことを目指しています0.205734

共起語上位

語1語2スコア共起ページ数
HsinchuInc2.77707224
PhotomaskTekscend2.7030841
ChunghwaInc2.69628224
BranchHsinchu2.6841522
世界各地に広がる顧客サービスネットワークと東京に本社を構え2.28379412
ChunghwaPhotomask2.1705724
BranchInc2.0925418
テクセンドフォトマスクへのご理解とご支援を賜り平素より2.0697928
CEO二ノ宮2.0697928
ChunghwaHsinchu2.0206818
半導体用フォトマスクの製造販売会社として1.9423598
凸版印刷株式会社販売会社として1.9423598
凸版印刷株式会社現TOPPANホールディングス株式会社1.9423598
からの会社分割により設立され現TOPPANホールディングス株式会社1.9423598
2022年4月より営業を開始しましたからの会社分割により設立され1.9423598
朝霞工場滋賀工場1.9423598
における半導体フォトマスク及び株式会社トッパン滋賀工場1.9423598
における半導体フォトマスク及び株式会社トッパンテクニカル1.9423598
テクニカルデザインセンターにおける半導体製品の設計1.9423598
デザインセンターにおける半導体製品の設計開発及び製造委託1.9423598
管理に関する以下の業務開発及び製造委託1.9423598
テクセンドフォトマスクへのご理解とご支援を賜り心より御礼申し上げます1.9423598
2024年11月1日をもって心より御礼申し上げます1.9423598
から株式会社トッパンフォトマスク1.9423598
120年以上の歴史を持つTOPPANグループの一員としてへと社名を変更いたしました1.9423598
120年以上の歴史を持つTOPPANグループの一員としてこれからも半導体産業の発展と成長に貢献してまいります1.9423598
世界中8つの工場がOne先端微細加工技術を駆使して半導体産業の革新と成長をリードし1.9423598
従業員の多様性を尊重し魅力ある職場を創造することで1.9423598
個々の能力を最大限に引き出すことを目指しています魅力ある職場を創造することで1.9423598
個々の能力を最大限に引き出すことを目指しています同時に1.9423598
同時に私たちは社会的責任を重視し1.9423598
環境への配慮をもって持続可能な成長を遂げたいと考えています私たちは社会的責任を重視し1.9423598
新しい技術やAI環境への配慮をもって持続可能な成長を遂げたいと考えています1.9423598
デジタル化を積極的に取り入れ新しい技術やAI1.9423598
デジタル化を積極的に取り入れ改善を続けることで新たな価値を創出し1.9423598
改善を続けることで新たな価値を創出し生産性を最大化します1.9423598
変化の激しい半導体業界において生産性を最大化します1.9423598
変化の激しい半導体業界において情報と知恵を結集し1.9423598
お客様と社会に貢献しながら情報と知恵を結集し1.9423598
お客様と社会に貢献しながら新しい未来を築いていきます1.9423598
パートナー企業やお客様との連携をこれまで以上に大切にし新しい未来を築いていきます1.9423598
お客様への提案をより強化することでパートナー企業やお客様との連携をこれまで以上に大切にし1.9423598
お客様への提案をより強化することで新しい価値を創造していきたいと考えています1.9423598
今後とも新しい価値を創造していきたいと考えています1.9423598
テクセンドフォトマスクをよろしくお願い申し上げます今後とも1.9423598
代表取締役社長執行役員1.9423598
CEO社長執行役員1.9423598
テクセンドフォトマスク株式会社朝霞サイト1.83640120
二ノ宮照雄1.8105346
世界各地に広がる顧客サービスネットワークと業界最先端の技術開発力で1.8096159

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