rise.hiroshima-u.ac.jp サイト解析まとめ

基本情報

サイトトップhttps://rise.hiroshima-u.ac.jp

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1ページ平均HTML(バイト)21993.8

内部リンク集計

リンク総数82

外部リンク集計

リンク総数22

メタ情報

meta description平均長0
OGPありページ数0
Twitterカードありページ数0

HTML言語 分布

キー割合
en-us100.00%

内部リンク分析(Internal)

ユニーク内部リンク数82
ページあたり内部リンク平均69.8

内部リンク 深さヒストグラム

キー
039
1271
2572
3444
470

内部リンク 上位URL

URLリンク総数
https://rise.hiroshima-u.ac.jp/activity/achievement/77
https://rise.hiroshima-u.ac.jp/about/access/59
https://rise.hiroshima-u.ac.jp/about/organization/45
https://rise.hiroshima-u.ac.jp/about/message/44
https://rise.hiroshima-u.ac.jp/about/aim/44
https://rise.hiroshima-u.ac.jp/info/member/44
https://rise.hiroshima-u.ac.jp/arim/44
https://rise.hiroshima-u.ac.jp/about/section/semiconductor-strategic-rd42
https://rise.hiroshima-u.ac.jp/about/section/nano-device-rd42
https://rise.hiroshima-u.ac.jp/about/section/interdisciplinary-rd42
https://rise.hiroshima-u.ac.jp/about/section/research-support-and-facilities-operation-office42
https://rise.hiroshima-u.ac.jp/about/aim/#history41
https://rise.hiroshima-u.ac.jp/internal/40
https://rise.hiroshima-u.ac.jp/internal/univ-wide/40
https://rise.hiroshima-u.ac.jp/39
https://rise.hiroshima-u.ac.jp/info/gallery/38
https://rise.hiroshima-u.ac.jp/contact/37
https://rise.hiroshima-u.ac.jp/facility/v/clean-room/36
https://rise.hiroshima-u.ac.jp/facility/36
https://rise.hiroshima-u.ac.jp/xnics/36

キーワード分析(KeywordMap)

ワードクラウド上位

重み
として1
hiroshima0.956546
Hiroshima0.819897
Office0.819897
TEL0.692111
FAX0.683247
mail0.683247
RNBS0.683247
研究所事務室0.666667
半導体産業技術研究所0.512297
Research0.512297
Institute0.512297
Semiconductor0.512297
Engineering0.512297
Innovation0.435963
device0.435963
technology0.435963
rise0.435963
設備運営室で構成されています0.409948
文部科学省マテリアル先端リサーチインフラ0.409948
広島大学0.409948
広島県東広島市鏡山10.409948
University0.409948
Kagamiyama0.409948
Higashi0.409948
JAPAN0.409948
半導体産業技術研究所は0.333333
当研究所の組織は3つの部門と研究支援0.333333
半導体産業技術の目指すべき方向を策定し世界に発信するとともに0.333333
当研究所の進むべき方向を定め0.333333
研究開発項目の策定を行っています0.333333
半導体デバイスの製造技術0.333333
新材料0.333333
新構造デバイス技術0.333333
集積回路設計技術の研究0.333333
開発を行っています0.333333
半導体デバイスの出口である高速通信技術0.333333
AI技術の研究を行うとともに0.333333
医工連携に関する研究0.333333
開発に取り組んでいます0.333333
文部科学省生体医歯工学共同研究拠点0.333333
東京医科歯科大学0.333333
東京工業大学及び静岡大学の連携研究機関との機能融合により0.333333
生体材料0.333333
医療用デバイス0.333333
医療用システムなどの共同研究を行っています0.333333
スーパークリーンルーム及び半導体試作ラインを0.333333
全国の研究者0.333333
技術者が利用可能な共用インフラとして運用しています0.333333
西日本地域唯一の0.333333

共起語上位

語1語2スコア共起ページ数
InstituteResearch2.80998327
InstituteSemiconductor2.59332222
RNBSmail2.39226416
EngineeringSemiconductor2.32263317
HiroshimaUniversity2.21370415
HiroshimaKagamiyama2.21370415
HigashiHiroshima2.21370415
KagamiyamaUniversity2.20029112
HigashiKagamiyama2.20029112
FAXOffice2.06211515
nics半導体創生拠点文部科学省次世代X2.0589028
半導体デバイスの製造技術新材料2.0512018
ResearchSemiconductor2.00592819
RNBShiroshima1.98061514
FAXmail1.96695315
AI技術の研究を行うとともに半導体デバイスの出口である高速通信技術1.9284567
東京医科歯科大学東京工業大学及び静岡大学の連携研究機関との機能融合により1.9205798
東京工業大学及び静岡大学の連携研究機関との機能融合により生体材料1.9205798
医療用デバイス生体材料1.9205798
医療用システムなどの共同研究を行っています医療用デバイス1.9205798
スーパークリーンルーム及び半導体試作ラインを全国の研究者1.9205798
全国の研究者技術者が利用可能な共用インフラとして運用しています1.9205798
技術者が利用可能な共用インフラとして運用しています西日本地域唯一の1.9205798
文部科学省次世代X西日本地域唯一の1.9205798
新材料新構造デバイス技術1.8618667
半導体産業技術の目指すべき方向を策定し世界に発信するとともに当研究所の進むべき方向を定め1.7893646
広島大学広島県東広島市鏡山11.7660399
Research半導体産業技術研究所1.7480420
新構造デバイス技術集積回路設計技術の研究1.721566
AI技術の研究を行うとともに医工連携に関する研究1.721566
HiroshimaJAPAN1.72001412
医療用システムなどの共同研究を行っています文部科学省マテリアル先端リサーチインフラ1.7120058
EngineeringInstitute1.69302614
半導体産業技術研究所広島大学1.69029812
HUB事業の補助によって建設されたJInnovation1.6415885
TEL広島県東広島市鏡山11.63392412
JAPANTEL1.63392412
FAXTEL1.62781515
HigashiUniversity1.6161019
HigashiJAPAN1.6161019
半導体デバイスの製造技術新構造デバイス技術1.593956
当研究所の進むべき方向を定め研究開発項目の策定を行っています1.5602155
開発を行っています集積回路設計技術の研究1.5602155
医工連携に関する研究開発に取り組んでいます1.5602155
nics半導体創生拠点西日本地域唯一の1.5404516
半導体研究のオープンイノベーション拠点国内最高レベルの環境のもとで1.5246914
広島空港東広島駅1.5246914
システム研究センターとして新たな10年時限で改組設立されました1.5246914
研究所は半導体戦略研究部門開発を進めていく体制にしました1.5246914
国内外における半導体産業の重要性は高まるばかりです当研究所は今後の半導体産業に貢献できるような研究1.5246914

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