基本情報
| サイトトップ | https://www.pvdcvd.net |
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HTMLサイズ
| 1ページ平均HTML(バイト) | 50433.45 |
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内部リンク集計
| リンク総数 | 327 |
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外部リンク集計
| リンク総数 | 858 |
|---|
メタ情報
| meta description平均長 | 118.18 |
|---|---|
| OGPありページ数 | 94 |
| Twitterカードありページ数 | 94 |
HTML言語 分布
| キー | 割合 |
|---|---|
| ja | 100.00% |
文字コード 分布
| キー | 割合 |
|---|---|
| utf-8 | 100.00% |
内部リンク分析(Internal)
| ユニーク内部リンク数 | 327 |
|---|---|
| ページあたり内部リンク平均 | 87.3 |
内部リンク 深さヒストグラム
| キー | 値 |
|---|---|
| 0 | 639 |
| 1 | 3438 |
| 2 | 4122 |
| 3 | 7 |
内部リンク 上位URL
キーワード分析(KeywordMap)
ワードクラウド上位
| 語 | 重み |
|---|---|
| Technology | 1 |
| Hefei | 0.900448 |
| Anhui | 0.862723 |
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共起語上位
| 語1 | 語2 | スコア | 共起ページ数 |
|---|---|---|---|
| すべて権利予約済み | プライバシー設定 | 4.767412 | 200 |
| プライバシー設定 | 電話 | 4.438992 | 150 |
| またはオンラインフォームでお問い合わせください | 私たちのスペシャリストはすぐにあなたに連絡します | 4.231519 | 200 |
| 私たちのスペシャリストはすぐにあなたに連絡します | 著作権 | 4.231519 | 200 |
| anhui | 著作権 | 4.231519 | 200 |
| すべて権利予約済み | 電話 | 3.990437 | 150 |
| Chunyuan | anhui | 3.801682 | 200 |
| Chunyuan | コーティングテクノロジー | 3.801682 | 200 |
| 以下の電話 | 電子メール | 3.763434 | 200 |
| Ltd | コーティングテクノロジー | 3.676491 | 200 |
| Ltd | すべて権利予約済み | 3.676491 | 200 |
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| またはオンラインフォームでお問い合わせください | 以下の電話 | 3.24816 | 150 |
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| anhui | 私たちのスペシャリストはすぐにあなたに連絡します | 2.963594 | 150 |
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| すべて権利予約済み | コーティングテクノロジー | 2.963594 | 150 |
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| プライバシー設定 | 引き合い | 2.415464 | 50 |
| Bureau | Science | 2.383306 | 21 |
| イオンビーム | マグネトロンスパッタテクノロジー | 2.336997 | 12 |
| スパッタ | マグネトロンスパッタテクノロジー | 2.336997 | 12 |
| Bureau | Technology | 2.323453 | 30 |
| 私たちのスペシャリストはすぐにあなたに連絡します | 電子メール | 2.28723 | 150 |
| Bureau | Hefei | 2.252256 | 23 |
| 医療 | 新しいエネルギー | 2.190057 | 12 |
| すべて権利予約済み | 引き合い | 2.171384 | 50 |
| Ltd | 電話 | 2.145066 | 100 |
| Pure | Source | 2.07608 | 12 |
| コーティングテクノロジー | プライバシー設定 | 2.055082 | 100 |
| 切削工具と金型 | 輸送 | 2.016542 | 8 |
| プラズマ強化薄膜機器は | 純粋なイオンコーティング技術 | 2.016542 | 8 |
| 純粋なイオンコーティング技術 | 純粋なイオンビーム | 2.016542 | 8 |
| 純粋なイオンビーム | 高エネルギーイオンビーム洗浄技術 | 2.016542 | 8 |
| 磁気閉じ込めCVD | 磁気閉じ込め蒸気堆積 | 2.016542 | 8 |
| IAD無線周波数イオン蒸発を採用して膜を形成します | 光学薄膜機器は | 2.016542 | 8 |
| デバイスです | 金のスパッタリング機の動作原理 | 2.016542 | 8 |
| 真空環境では | 金のスパッタリング機の動作原理 | 2.016542 | 8 |
| 真空環境では | 高エネルギーイオン | 2.016542 | 8 |
| 通常はアルゴンイオン | 高エネルギーイオン | 2.016542 | 8 |
| が金の標的を攻撃し | 通常はアルゴンイオン | 2.016542 | 8 |