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cvr.co.jp サイト解析まとめ

基本情報

サイトトップhttps://cvr.co.jp

HTMLサイズ

1ページ平均HTML（バイト）31541.64

内部リンク集計

リンク総数20

外部リンク集計

リンク総数8

メタ情報

meta description平均長0
OGPありページ数0
Twitterカードありページ数0

HTML言語 分布

キー割合
ja100.00%

文字コード 分布

キー割合
utf-8100.00%

内部リンク分析（Internal）

ユニーク内部リンク数20
ページあたり内部リンク平均17.57

内部リンク 深さヒストグラム

キー値
056
186
215
388
51

内部リンク 上位URL

URLリンク総数
https://cvr.co.jp/42
https://cvr.co.jp/archives/category/product29
https://cvr.co.jp/archives/category/application29
https://cvr.co.jp/archives/category/service29
https://cvr.co.jp/development29
https://cvr.co.jp/company29
https://cvr.co.jp/contact28
http://cvr.co.jp/14
https://cvr.co.jp/archives/5122
https://cvr.co.jp/archives/5072
https://cvr.co.jp/archives/5042
https://cvr.co.jp/archives/4832
https://cvr.co.jp/archives/4732
https://cvr.co.jp/archives/category/news1
https://cvr.co.jp/archives/4601
https://cvr.co.jp/archives/4551
https://cvr.co.jp/archives/4051
https://cvr.co.jp/archives/3721
https://cvr.co.jp/archives/3521
https://cvr.co.jp/archives/category/news/page/21

連絡先候補（Contacts）

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キーワード分析（KeywordMap）

ワードクラウド上位

語重み
処理方法1
大変ご迷惑をおかけしますが0.678144
誠に勝手ながら0.668823
以下の期間を休業とさせていただきます0.668823
休業中にいただいた0.668823
につきましては0.668823
以降に対応させていただきます0.668823
何卒ご了承くださいますようお願い申し上げます0.61033
Layer0.571429
半導体に携わるお客様の様々なシーズ0.428571
を具現化いたします0.428571
半導体製造装置の開発0.428571
製造0.428571
販売を通して社会に貢献いたします0.428571
キャパシター膜0.428571
高密度プラズマ処理0.428571
新住所0.421343
本社0.406887
1月5日0.316007
8月19日0.316007
LLD0.285714
Deposition0.285714
成膜温度0.285714
ゲート膜0.285714
CVD0.285714
2021年4月29日0.285714
ウェハーに対応したプラットフォーム0.285714
処理サイズ0.285714
インチWafer0.285714
8インチSiトレイの使用によりチップ処理対応可能0.285714
詳細は別途お打ち合わせ0.285714
CVR0.285714
森ケ崎事業所0.271258
TaO0.250162
SiO0.250162
SiN0.250162
2023年7月13日0.210672
2023年8月11日0.210672
2023年8月20日0.210672
8月21日0.210672
2023年10月24日0.210672
この度0.210672
弊社は十月十二日付で本社を移転し0.210672
研究開発施設を開設する0.210672
こととなりました0.210672
つきましては0.210672
電話番号等下記の通りとなりますのでお手数で0.210672
すが0.210672
ご登録等よろしくお願い申し上げます0.210672
これを機に従業員一同さらに専心努力し0.210672

共起語上位

語1語2スコア共起ページ数
FAXTEL3.49846565
リサーチヴィ3.23036460
以下の期間を休業とさせていただきます誠に勝手ながら3.13886748
につきましては休業中にいただいた3.13886748
ヴィ株式会社シー3.0752456
ベンチャープラザ215号千葉県船橋市北本町12.95402256
TELベンチャープラザ215号2.86238356
何卒ご了承くださいますようお願い申し上げます大変ご迷惑をおかけしますが2.84313536
リサーチ千葉県船橋市北本町12.82443856
以降に対応させていただきます大変ご迷惑をおかけしますが2.77571640
を具現化いたします半導体に携わるお客様の様々なシーズ2.65525514
を具現化いたします半導体製造装置の開発2.6024614
半導体製造装置の開発製造2.6024614
製造販売を通して社会に貢献いたします2.6024614
半導体に携わるお客様の様々なシーズ半導体製造装置の開発2.480413
を具現化いたします製造2.43000613
半導体製造装置の開発販売を通して社会に貢献いたします2.43000613
半導体に携わるお客様の様々なシーズ製造2.30290512
Researchベンチャープラザ215号2.28307128
FAXResearch2.28307128
を具現化いたします販売を通して社会に貢献いたします2.25498712
につきましては以降に対応させていただきます2.18898536
FAXベンチャープラザ215号2.18652742
CorporationResearch2.17763614
半導体に携わるお客様の様々なシーズ販売を通して社会に貢献いたします2.12248511
リサーチ株式会社シー2.08018842
ベンチャープラザ215号リサーチ2.08018842
2025年10月29日CEATEC2.0775968
ResearchTEL2.06733428
2023年10月24日この度2.0144528
インチWafer処理サイズ2.0144528
2023年8月11日2023年8月20日1.9579688
この度弊社は十月十二日付で本社を移転し1.9579688
弊社は十月十二日付で本社を移転し研究開発施設を開設する1.9579688
こととなりました研究開発施設を開設する1.9579688
こととなりましたつきましては1.9579688
すが電話番号等下記の通りとなりますのでお手数で1.9579688
ご登録等よろしくお願い申し上げますすが1.9579688
これを機に従業員一同さらに専心努力しご登録等よろしくお願い申し上げます1.9579688
これを機に従業員一同さらに専心努力しご期待にお応えする決意でご1.9579688
ご期待にお応えする決意でございます1.9579688
ざいます次第です1.9579688
旧住所次第です1.9579688
215号ベンチャープラザ船橋1.9579688
テクノフロント森ケ崎東京都大田区大森南41.9579688
202号テクノフロント森ケ崎1.9579688
2023年12月29日2024年1月4日1.9579688
2024年8月10日2024年8月18日1.9579688
2024年12月28日2025年1月5日1.9579688
CEATEC千葉県ブースにて新規開発装置を出展いたしました1.9579688

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