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1200
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ワードクラウド上位

重み
このように1
準備中0.84471
表面0.729762
材料はすべてのものの根源であり0.5
材料なくしてものはできない0.5
石器0.5
青銅器0.5
現代を象徴する材料は0.5
シリコンであり0.5
石油でもあります0.5
これら材料を加工することで0.5
いろいろな製品ができ0.5
私たちに使われものができます0.5
人工知能が重要視される現在において0.5
これらを司るのはコンピュータであり0.5
また半導体デバイスであり0.5
これらも材料からできています0.5
時代を変えるであろうと期待される0.5
室温超電導体0.5
量子コンピュータ0.5
ニューロコンピュータ0.5
核融合発電0.5
機能性食品などは0.5
新たな材料開発なくして実現しません0.5
材料はあらゆる産業の基礎であり0.5
新しい材料の創製なくして0.5
新時代は拓けません0.5
また0.5
表面は0.5
材料が使われる周り0.5
環境0.5
と相互作用をする場であり0.5
材料は0.5
中身0.5
バルク0.5
と表面から成り立っています0.5
表面は材料にとって自身の機能の発現の場でもあり0.5
産業分野においてきわめて重要であります0.5
例えば0.5
現在の半導体チップは表面加工なくして作ることはできません0.5
現在0.5
量産される最先端の半導体チップの線幅は30.5
nmで0.5
2025年には20.5
nmとなるよう開発が進んでいます0.5
これには最先端の露光技術0.5
エッチング技術0.5
めっき技術といった表面処理技術が用いられており0.5
半導体チップは最先端の表面工学の集積の場となっています0.5
以前の予測では開発が難しいといわれた線幅が実現し0.5

共起語上位

語1語2スコア共起ページ数
Language準備中1.4321887
材料なくしてものはできない材料はすべてのものの根源であり1.3706634
材料なくしてものはできない石器1.3706634
石器青銅器1.3706634
現代を象徴する材料は青銅器1.3706634
シリコンであり現代を象徴する材料は1.3706634
シリコンであり石油でもあります1.3706634
これら材料を加工することで石油でもあります1.3706634
いろいろな製品ができこれら材料を加工することで1.3706634
いろいろな製品ができ私たちに使われものができます1.3706634
人工知能が重要視される現在において私たちに使われものができます1.3706634
これらを司るのはコンピュータであり人工知能が重要視される現在において1.3706634
これらを司るのはコンピュータでありまた半導体デバイスであり1.3706634
これらも材料からできていますまた半導体デバイスであり1.3706634
これらも材料からできています時代を変えるであろうと期待される1.3706634
室温超電導体時代を変えるであろうと期待される1.3706634
室温超電導体量子コンピュータ1.3706634
ニューロコンピュータ量子コンピュータ1.3706634
ニューロコンピュータ核融合発電1.3706634
核融合発電機能性食品などは1.3706634
新たな材料開発なくして実現しません機能性食品などは1.3706634
新しい材料の創製なくして材料はあらゆる産業の基礎であり1.3706634
新しい材料の創製なくして新時代は拓けません1.3706634
また新時代は拓けません1.3706634
また表面は1.3706634
材料が使われる周り表面は1.3706634
材料が使われる周り環境1.3706634
と相互作用をする場であり環境1.3706634
と相互作用をする場であり材料は1.3706634
中身材料は1.3706634
バルク中身1.3706634
と表面から成り立っていますバルク1.3706634
と表面から成り立っています表面は材料にとって自身の機能の発現の場でもあり1.3706634
産業分野においてきわめて重要であります表面は材料にとって自身の機能の発現の場でもあり1.3706634
例えば産業分野においてきわめて重要であります1.3706634
例えば現在の半導体チップは表面加工なくして作ることはできません1.3706634
現在現在の半導体チップは表面加工なくして作ることはできません1.3706634
現在量産される最先端の半導体チップの線幅は31.3706634
nmで量産される最先端の半導体チップの線幅は31.3706634
2025年には2nmで1.3706634
2025年には2nmとなるよう開発が進んでいます1.3706634
nmとなるよう開発が進んでいますこれには最先端の露光技術1.3706634
これには最先端の露光技術エッチング技術1.3706634
めっき技術といった表面処理技術が用いられておりエッチング技術1.3706634
めっき技術といった表面処理技術が用いられており半導体チップは最先端の表面工学の集積の場となっています1.3706634
以前の予測では開発が難しいといわれた線幅が実現し半導体チップは最先端の表面工学の集積の場となっています1.3706634
以前の予測では開発が難しいといわれた線幅が実現し限界といわれる線幅11.3706634
nmに近づいているのが現状です限界といわれる線幅11.3706634
nmに近づいているのが現状です限界を乗り越えるため1.3706634
半導体チップでは限界を乗り越えるため1.3706634

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