メタ情報
| meta description平均長 | 91.37 |
|---|
| OGPありページ数 | 28 |
|---|
| Twitterカードありページ数 | 28 |
|---|
内部リンク分析(Internal)
| ユニーク内部リンク数 | 157 |
|---|
| ページあたり内部リンク平均 | 85.97 |
|---|
内部リンク 深さヒストグラム
| キー | 値 |
|---|
| 0 | 150 |
| 1 | 906 |
| 2 | 1752 |
| 3 | 234 |
| 4 | 7 |
| 5 | 46 |
連絡先候補(Contacts)
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キーワード分析(KeywordMap)
ワードクラウド上位
| 語 | 重み |
|---|
| SPIE | 1 |
| TTV | 0.933333 |
| Plasma | 0.892617 |
| 製品特徴 | 0.841677 |
| 仕様 | 0.841677 |
| 3D | 0.8 |
| iPS | 0.8 |
| Polishing | 0.8 |
| Optifab | 0.682103 |
| CellPet | 0.669463 |
| 関連商品 | 0.669463 |
| 型式 | 0.669463 |
| PAP | 0.6 |
| Assisted | 0.6 |
| アプリケーションノート | 0.589174 |
| 3次元浮遊培養技術 | 0.533333 |
| 関連論文 | 0.533333 |
| 細胞小片化技術 | 0.533333 |
| STEP | 0.533333 |
| Optics | 0.511577 |
| Photonics | 0.511577 |
| mirrors | 0.511577 |
| Chemical | 0.466667 |
| DOI | 0.446309 |
| CARE | 0.426314 |
| プラズマ援用研磨法 | 0.426314 |
| POINT | 0.4 |
| 質量 | 0.384564 |
| CVM | 0.341051 |
| 加工対象物 | 0.341051 |
| 適用例 | 0.341051 |
| Mechanical | 0.341051 |
| 加工は | 0.341051 |
| 特徴 | 0.341051 |
| 代表的適用例 | 0.341051 |
| から | 0.341051 |
| 操作手順 | 0.341051 |
| ディッシュ | 0.341051 |
| 単位 | 0.341051 |
| 平均膜厚 | 0.333333 |
| Takahashi | 0.333333 |
| doi | 0.333333 |
| org | 0.333333 |
| 使用環境温度 | 0.333333 |
| 使用環境湿度 | 0.333333 |
| また | 0.288423 |
| CELLFLOAT | 0.278943 |
| Convention | 0.266667 |
| Center | 0.266667 |
| our | 0.266667 |
共起語上位
| 語1 | 語2 | スコア | 共起ページ数 |
|---|
| 3D | CellPet | 3.274524 | 44 |
| 3D | iPS | 2.973825 | 39 |
| 仕様 | 関連商品 | 2.933921 | 49 |
| 使用環境温度 | 使用環境湿度 | 2.86515 | 23 |
| アプリケーションノート | 仕様 | 2.77947 | 49 |
| Assisted | Plasma | 2.771489 | 36 |
| Optics | Photonics | 2.76763 | 21 |
| アプリケーションノート | 関連商品 | 2.753272 | 39 |
| doi | org | 2.742045 | 20 |
| PAP | Plasma | 2.705084 | 35 |
| Assisted | Polishing | 2.687794 | 32 |
| Machining | Vaporization | 2.626692 | 16 |
| Center | Convention | 2.565051 | 16 |
| ECMP | Electro | 2.485627 | 13 |
| Optifab | SPIE | 2.450225 | 27 |
| 質量 | 電源 | 2.440652 | 20 |
| 細胞小片化技術 | 製品特徴 | 2.422179 | 33 |
| CAtalyst | Referred | 2.406883 | 12 |
| Etching | Referred | 2.406883 | 12 |
| Assisted | PAP | 2.395174 | 25 |
| CellPet | iPS | 2.370139 | 30 |
| 3次元浮遊培養技術 | 製品特徴 | 2.356548 | 32 |
| Development | non | 2.336138 | 12 |
| coordinate | non | 2.336138 | 12 |
| coordinate | measuring | 2.336138 | 12 |
| machine | measuring | 2.336138 | 12 |
| dimensinally | machine | 2.336138 | 12 |
| curved | dimensinally | 2.336138 | 12 |
| curved | hard | 2.336138 | 12 |
| hard | ray | 2.336138 | 12 |
| focusing | ray | 2.336138 | 12 |
| Simulation | study | 2.336138 | 12 |
| geometric | study | 2.336138 | 12 |
| aberrations | geometric | 2.336138 | 12 |
| aberrations | advanced | 2.336138 | 12 |
| EUV | FEL | 2.336138 | 12 |
| FEL | nanofocusing | 2.336138 | 12 |
| ご使用の際はオートクレーブなどで滅菌ください | 未滅菌 | 2.336138 | 12 |
| 仕様 | 関連論文 | 2.311956 | 32 |
| アプリケーションノート | 製品特徴 | 2.293784 | 39 |
| Chemical | Vaporization | 2.27703 | 16 |
| nmに改善 | から | 2.242662 | 12 |
| 仕様 | 製品特徴 | 2.220953 | 45 |
| ディッシュ | マルチウェルプレート | 2.214941 | 12 |
| Optics | SPIE | 2.195247 | 22 |
| ディスポーザブル | 電子線滅菌済 | 2.182066 | 11 |
| Polishing | プラズマ援用研磨法 | 2.160074 | 20 |
| CARE | CAtalyst | 2.13054 | 12 |
| を添付 | 当社より追ってご連絡いたします | 2.106568 | 8 |
| とは | 当社独自の3次元浮遊培養技術のことです | 2.096684 | 9 |
被リンク情報
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